光學(xué)窗口片拋光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)會(huì)出現(xiàn)的現(xiàn)象
更新時(shí)間：2019-12-16
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光學(xué)窗口片研磨拋光階段的工藝流程為：粗磨（一致化）-精磨（平坦化）-拋光（鏡面化）。其中，粗磨和精磨階段都是采取磨料沖擊破碎藍(lán)寶石表面的方式進(jìn)行，為純物理作用，拋光一般采用堿性二氧化硅溶膠，一邊對(duì)藍(lán)寶石表面進(jìn)行輕微腐蝕，一邊通過(guò)拋光墊掃除的方式達(dá)到鏡面效果，為CMP拋光，即化學(xué)物理拋光法。
由以上流程可知，藍(lán)寶石拋光是一個(gè)腐蝕—掃除的過(guò)程，其中，腐蝕的厚度僅僅達(dá)到埃米級(jí)。藍(lán)寶石拋光完結(jié)應(yīng)該是鏡片的所有部分都達(dá)到鏡面效果。
在日常加工中，經(jīng)常碰到光學(xué)窗口片拋光過(guò)長(zhǎng)的現(xiàn)象，時(shí)間太長(zhǎng)的會(huì)出現(xiàn)以下現(xiàn)象：
1.長(zhǎng)方形特別是長(zhǎng)條形的四個(gè)角拋不透；
2.表面有坑點(diǎn)；
3.橘皮水紋等缺陷；
4.表面發(fā)蒙，霧化。
以上現(xiàn)象，除第三點(diǎn)外，基本都由研磨所產(chǎn)生。
光學(xué)窗口片的拋光是逐漸腐蝕的過(guò)程，而腐蝕的深度非常細(xì)微，藍(lán)寶石拋光時(shí)間長(zhǎng)，無(wú)非就是腐蝕還沒達(dá)致全局，要想達(dá)致全局，只能延長(zhǎng)拋光時(shí)間。
若光學(xué)窗口片表面出現(xiàn)坑點(diǎn)，該如何處理？
表面坑點(diǎn)有兩種基本現(xiàn)象，一是個(gè)別坑點(diǎn)且全盤幾乎每片都有；二是單片上密布坑點(diǎn)。頭一種現(xiàn)象產(chǎn)生的原因是研磨砂個(gè)別大顆粒擠壓產(chǎn)生的坑點(diǎn)，采取的方式是卸壓，即將上盤的壓力降低，甚至可以利用反壓，同時(shí)注意分析是否有碎屑、鐵屑或其他大號(hào)砂通過(guò)環(huán)境傳輸混入，若有此現(xiàn)象，必須清洗機(jī)器并過(guò)濾砂液，一般來(lái)講，混入少量的大顆粒研磨砂，通過(guò)研磨一定的時(shí)間后會(huì)消除。
